半自動雙面真空曝光機

雙面曝光機,北京正盛鴻成電(diàn)子科(kē)技(jì )有(yǒu)限公(gōng)司集技(jì )術研發、設備制造、産(chǎn)品加工(gōng)、技(jì )術培訓為(wèi)一體(tǐ)的先進工(gōng)藝設備制造商(shāng),有(yǒu)曝光機,PCB蝕刻...

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産(chǎn)品詳情

雙面曝光機,北京正盛鴻成電(diàn)子科(kē)技(jì )有(yǒu)限公(gōng)司集技(jì )術研發、設備制造、産(chǎn)品加工(gōng)、技(jì )術培訓為(wèi)一體(tǐ)的先進工(gōng)藝設備制造商(shāng),有(yǒu)曝光機,PCB蝕刻設備,化學(xué)蝕刻設備,标牌蝕刻機,半自動雙面真空曝光機廠家

設備名(míng)稱：半自動雙面真空曝光機

Machine Name：Double Exposure Machine

技(jì )術參數

Specifications

設備型号

Model

GE-B650

曝光光源

Lamp

3KW碘镓燈*2支

Gallium Iodine Lamp*2sets

光均勻度

Light Uniformity

≥90%

冷卻系統

Cooling System

強制風冷

Air Cooling System

電(diàn)源功率

Power

7.5KW/380V AC/50Hz/

曝光尺寸

Working Size

650*650mm

曝光精(jīng)度

Exposing Accuracy

+/-0.05mm

外型尺寸

Machine Size

2000*1250*1650*mm

重量

Weight

300KG

設備說明：

此半自動雙面真空曝光機為(wèi)雙面曝光作(zuò)業，雙燈獨立可(kě)調，是一款經濟精(jīng)度而設計的實用(yòng)機型。特殊規格或特殊光源可(kě)定做。

Introduction:

This semi-automatic double-sided vacuum exposure machine is designed for double-sided exposure operation, and the double lamps can be adjusted independently. It is a practical model designed for economic precision. Special specifications or special light source can be customized.